氧化鋯陶瓷棒供貨商，礫石實(shí)業(yè)進(jìn)出口業(yè)務(wù)主要依托產(chǎn)業(yè)型公司的產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)，在出口集團(tuán)自有產(chǎn)品的基礎(chǔ)上，為工業(yè)陶瓷使用用戶提供一體化服務(wù)。東莞市礫石實(shí)業(yè)投資有限公司嚴(yán)格按照生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)，以完善的管理體系，供應(yīng)的氧化鋯陶瓷棒質(zhì)量；而且公司注重人才的開(kāi)發(fā)與培養(yǎng)，因此能為工業(yè)陶瓷使用用戶始終如一地提供良好的服務(wù)。

氧化鋯陶瓷棒，靶材的主要性能要求純度純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。不過(guò)在實(shí)際應(yīng)用中，對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”,8“發(fā)展到12”,而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對(duì)靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。雜質(zhì)含量靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。密度為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能地承受濺射過(guò)程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。晶粒尺寸及晶粒尺寸分布通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。對(duì)于同一種靶材，晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。

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