一、行業水質標準：

     我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、國內外大規模集成電路水質標準。

二、行業對水質的要求：

   光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

三、反滲透設備工藝流程

原水箱

儲存原水，設高、低水位控制。對系統的給水起調節作用，防止自來水給水不足的影響，同時也可對自來水中的雜質起一定的沉淀作用。（如水壓過低或過高引起的壓力傳感的反應）。


原水泵

提供預處理系統正常工作的動力源，為保持后序設備的正常運行，增加壓力。泵相應設置高過熱保護器、壓力控制器，出現故障自動報警。

多介質過濾器

采用多次過濾層的過濾器，主要目的是去除原水中含有的泥沙、鐵銹、膠體物質、懸浮物等顆粒在20um以上的物質。而且還可以使水中的有機物質、細菌、病毒等隨著濁度的降低而被大量去除，并為濾后消毒創造了良好條件。經過砂濾器原水濁度可降低至5mg/L以下。保證設備的產水質量，延長設備的使用壽命。