等離子光解廢氣除臭凈化器，綜合采用了等離子廢氣凈化器和紫外光觸媒除臭廢氣凈化器兩種設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)組合而成，利用等離子分解技術(shù)和UV紫外光解技術(shù)結(jié)合，對廢氣和臭氣進(jìn)行高效協(xié)同凈化處理：有機(jī)廢氣和惡臭氣體進(jìn)入集成設(shè)備后，經(jīng)過UV紫外光束區(qū)時，被紫外光波高能高效率地照射，瞬間產(chǎn)生光解反應(yīng)；經(jīng)過等離子體電場時，在納秒級時間范圍內(nèi)，產(chǎn)生裂變分解反應(yīng)；如此協(xié)同高效地產(chǎn)生一系光解和分解反應(yīng)，經(jīng)過多級凈化后從而達(dá)標(biāo)排放。

等離子分解區(qū)

等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，采用脈沖高頻高壓等離子體電源，利用雙介質(zhì)齒板放電北裝置，以尖端放電形式產(chǎn)生等離子體，在毫秒級的時間內(nèi)，把空氣和廢氣分子擊穿，發(fā)生一系列分化裂解反應(yīng)，產(chǎn)生高濃度、高強(qiáng)度、高能量的各種活性自由基、電子、離子、臭氧、原子氧、生態(tài)氧等，在納秒級的時間內(nèi)，瞬間對廢氣和臭氧分子進(jìn)行氧化還原反應(yīng)；活性自由基可以有效地破壞各種病毒、細(xì)菌中的核酸，蛋白質(zhì)，使其不能進(jìn)行正常的代謝和生物合成，從而致其死亡；而生態(tài)氧能迅速將有機(jī)廢氣分子異味氣體分解可還原為低分子無害物質(zhì)；另外，借助等離子體中的離子與物體的聚合吸附作用，可以對小至亞微米級的細(xì)微有機(jī)廢氣顆粒物進(jìn)行有效的吸附沉降處理。

放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。

Uv紫外線光解區(qū)

一、利用特制的高能臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

二、利用高能臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。

UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3（臭氧），眾所周知臭氧對有機(jī)物具有極強(qiáng)的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。

三、惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。

四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。

產(chǎn)品性能綜述

一、高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達(dá)99.9%以上，脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93）。

二、無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力，使惡臭氣體通本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

三、適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

四、運(yùn)行成本低：本設(shè)備無任何機(jī)械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.1度電能），設(shè)備風(fēng)阻極低<30pa，可節(jié)約大量排風(fēng)動力的能耗。

五、無需預(yù)處理：惡臭氣體無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃-65℃之間，濕度在40%-95%之間均可正常工作。