接觸式光刻機是一種用于信息科學與系統科學、能源科學技術、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，尤其在微納加工技術領域有著廣泛的應用。

一、基本原理
接觸式光刻機的工作原理相對簡單直接：
1.掩模版與晶圓接觸：將帶有電路圖案的掩模版（即帶有電路圖案的模板）與涂有光刻膠的晶圓表面直接接觸。
2.曝光：通過光源照射，使光刻膠發生化學反應。
3.圖案形成：形成與掩模版圖案相對應的圖形。

二、特點
1.高分辨率：接觸式光刻機具有較高的分辨率，能夠制備微米和納米尺度的圖案結構，適用于微電子器件和光學器件的制備。
2.高精度：由于掩模與感光劑直接接觸，因此接觸式光刻能夠實現高精度的圖案轉移，有助于制備復雜的微納結構。
3.成本效益：相對于其他微納加工技術，接觸式光刻機具有較低的成本，適用于大規模生產。

三、應用
1.集成電路制造：用于制造微電子器件，如芯片。
2.微機電系統（MEMS）：用于制造微型的機械結構，如傳感器、執行器等。
3.生物芯片：用于制造生物芯片，用于生物檢測和分析。
4.光學元件：用于制造各種光學元件，如透鏡、光柵等。

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