納米激光直寫系統型號擅長wafer尺寸的研究開發和小批量生產
納米激光直寫系統型號是一款大面積、高精度、可套刻、超衍射極限加工的激光直寫系統，可用于晶圓尺寸的大面積微納加工，適用于各種微納結構和器件制造、小批量微納器件生產等。該系列包括L50、L100等不同型號，具有功能強大、維護簡單、加工分辨率高、支持多種刻寫模式、支持多種受體材料等特征。另外，本系統在設計之初保留了充足的物理空間和硬件資源，以滿足后續功能升級換代的需求，使產品具有更長的生命周期。
蘇州華維納納米科技有限公司于2011年注冊成立的高科技創新型公司，主要從事新型納米光刻技術和無掩模納米光刻機的研發和產業化工作。
激光直寫系統的應用領域
該產品具有高精度、高效率和高靈活性等優勢，在許多領域得到了廣泛應用。
微納加工
激光直寫系統能夠按照特定的軌跡制造微米級別的結構，如微型電子元器件、微流體芯片、生物芯片等。這種技術在納米技術、生物醫學、光電子學、量子計算等領域有著廣泛的應用。
高精度模具制造
該產品能夠制造出直徑小于1微米的細小結構，使其成為高精度模具制造的理想工具。這種技術可實現快速生產小批量、高精度的模具，同時可以減少制造過程中的浪費和成本。
生物醫學
激光直寫系統可以用來制造生物芯片、微針和其他微型醫療設備。這種技術可以制造出具有特定結構和功能的微小器件，如藥物輸送系統、生物傳感器等。
光學元件
激光直寫系統可以制造高精度的光學元件，如微透鏡、光纖耦合器、波導等。這些元件在通信、光電子學、生物醫學等領域有著廣泛的應用。
上一篇：沒有了采用全新的技術路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實現納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現狀，可以廣泛應用于各種受體材料，極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。
新一代激光直寫光刻設備特點
具有核心知識產權的國產激光直寫設備
具有超越衍射極限的加工能力
納米激光直寫系統可適用于多種受體材料
納米激光直寫系統型號
http://www.huaweina.cn/Products-37611929.html
https://www.chem17.com/st567305/product_37611929.html