產(chǎn)品用途

PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。

產(chǎn)品組成

PECVD系統(tǒng)配置；

1.1200度開啟式滑動單溫區(qū)真空管式爐

2.等離子射頻電源

3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

4.真空系統(tǒng)（單獨購買）

產(chǎn)品特點

電源范圍廣；溫度范圍寬；濺射區(qū)域長；整管可調(diào)；精致小巧，性價比高，可實現(xiàn)快速升降溫，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等的理想選擇，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。

系統(tǒng)名稱

集成型PECVD系統(tǒng)

1200℃小型PECVD系統(tǒng)

系統(tǒng)型號

PECVD-12IH-500A

PECVD-12IH-4Z/G

控制方式

液晶屏微PLC控制系統(tǒng)

手動

最高溫度

1200℃

加熱區(qū)長度

200mm

恒溫區(qū)長度

100mm

溫區(qū)

單溫區(qū)

石英管管徑

Φ60mm

Φ50mm

額定功率

1.2Kw

2Kw

額定電壓

220V

滑動方式及距離

自動滑動;200mm

手動滑動;200mm

溫度控制

30段程序控溫

50段程序控溫

控制精度

±1℃

爐管最高工作溫度

＜1200℃

氣路法蘭

采用多環(huán)密封技術(shù)卡箍快速連接

排風(fēng)冷卻裝置

先進(jìn)的空氣隔熱技術(shù)，結(jié)合熱感應(yīng)技術(shù)，當(dāng)爐體表面溫升到50℃時，

排溫風(fēng)扇將自動啟動，使?fàn)t體表面快速降溫。

氣體控制方式

質(zhì)量流量計（按鍵式）

氣路數(shù)量

2路（2-4路）

4路（可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量）

流量范圍

0-500sccm(標(biāo)準(zhǔn)毫升/分，可選配）氮氣標(biāo)定

精度

±1%F.S

響應(yīng)時間

1sec

工作溫度（流量計）

20-120℃

工作壓力

進(jìn)氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力）

進(jìn)氣方式

采用防倒流設(shè)計

規(guī)格

中真空（集成型請單獨購買）

系統(tǒng)真空范圍

10Pa-100Pa