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超純水設(shè)備_寧波超純水設(shè)備_電子行業(yè)超純水 研發(fā)、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、安裝、銷售;水處理設(shè)備;道路普通貨物運(yùn)輸。
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產(chǎn)品品牌蘇州偉志水處理設(shè)備
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更新日期2021-08-21 10:56
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蘇州偉志水處理設(shè)備 |
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超純水設(shè)備_寧波超純水設(shè)備_電子行業(yè)超純水
超純水設(shè)備之---電子行業(yè) 電子行業(yè)為什么要用到超純水設(shè)備?
去離子水/超純水在電子工業(yè)主要是線路板、電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出,去離子/超純水水質(zhì)已成為影響線路板、電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一,水質(zhì)要求也越來(lái)越高。在電子元器件生產(chǎn)中,去離子水/超純水主要用作清洗用水及用來(lái)配制各種溶液、漿料,不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途及對(duì)水質(zhì)的要求也不同17714079756
在晶體管、集成電路生產(chǎn)中,超純水主要用于清洗硅片,另有少量用于配制,硅片氧化的水汽源,部分設(shè)備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過(guò)程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片,水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會(huì)使絕緣膜耐壓不良,重金屬(Au、Ag、Cu等)會(huì)使PN結(jié)耐壓降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會(huì)使N型半導(dǎo)體特性惡化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會(huì)使P型半導(dǎo)體特性惡化,水中細(xì)菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會(huì)使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)?/span>N型硅而導(dǎo)致器件性能變壞,水中的顆粒(包括細(xì)菌)如吸附在硅片表面,就會(huì)引起電路短路或特性變差。集成電路生產(chǎn)對(duì)純水水質(zhì)的要求見(jiàn)表1
對(duì)純水水質(zhì)的要求
電子超純水設(shè)備是保證電子 產(chǎn) 品 質(zhì)量 安 全 促進(jìn)電子業(yè)健康運(yùn)行的依據(jù),電子超純水設(shè)備適用集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片、半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工,純水一號(hào)的電子工業(yè)設(shè)備廣泛的用于在電子業(yè)中,而且在電子業(yè)中的地位更是蒸蒸日上成為業(yè)內(nèi)發(fā)展的主導(dǎo)者。 電子行業(yè)超純水
目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級(jí),分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,線寬越窄,對(duì)水質(zhì)的要求也越高
電子行業(yè)超純水中除了水分子(H20)外,幾乎沒(méi)有什么雜質(zhì),更沒(méi)有細(xì)菌、病毒、含氯等有機(jī)物,當(dāng)然也沒(méi)有人體所需的礦物質(zhì)微量元素。超純水,是一般工藝很難達(dá)到的程度,如水的電阻率大于18MΩ*cm,接近于18.3MΩ*cm則稱為超純水。目前,超純水設(shè)備的方法通常采用反滲透,去離子或電去離子(EDI)等工藝
電子行業(yè)超純水發(fā)展的歷史進(jìn)程
一階段:預(yù)處理過(guò)濾器——>陽(yáng)床——>陰床——>混合床
第二階段:預(yù)處理過(guò)濾器——>反滲透——>混合床
現(xiàn)階段: 預(yù)處理過(guò)濾器——>反滲透——>EDI(無(wú)需酸堿)
電子行業(yè)超純水設(shè)備的幾中工藝
目前制備電子工業(yè)超純水的工藝基本上是以上三種,其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎(chǔ)上進(jìn)行不同組合搭配衍生而來(lái)。現(xiàn)將他們的優(yōu)缺點(diǎn)分別列于下面:
一種:采用離子交換樹(shù)脂制備電子工業(yè)超純水的傳統(tǒng)水處理方式,其基本工藝流程為:原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→陽(yáng)床→陰床→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)
其優(yōu)點(diǎn)在于少,占用的地方少,但缺點(diǎn)就是需要經(jīng)常進(jìn)行離子再生,耗費(fèi)大量酸堿,而且對(duì)環(huán)境有一定的破壞。
第二種:采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合制備電子工業(yè)超純水的方式,其基本工藝流程為:原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)
其特點(diǎn)為初次比采用離子交換樹(shù)脂方式要稍高,但離子再生周期相對(duì)要長(zhǎng),耗費(fèi)的酸堿比單純采用離子樹(shù)脂的方式要少很多。是目前比較經(jīng)濟(jì)與流行的一種工
第三種:采用反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式,這是一種制取超純水的工藝,也是一種環(huán)保,經(jīng)濟(jì),發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋涸嘟橘|(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)
這是目前制取超純水先進(jìn),環(huán)保的的工藝,不需要用酸堿進(jìn)行再生便可連續(xù)制取超純水,對(duì)環(huán)境沒(méi)什么破壞性。其缺點(diǎn)在于初次相對(duì)以上兩種方式過(guò)于昂貴
電子行業(yè)超純水設(shè)備技術(shù)特征及水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)
技術(shù)特征
1、可連續(xù)自動(dòng)生產(chǎn),不必停機(jī)再生
2、出水水質(zhì)優(yōu)于常規(guī)離子交換法
3、不需酸堿再生,不污染環(huán)境
4、運(yùn)行成本低,占地面積小
蘇州偉志水處理設(shè)備水處理行業(yè)
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