Hakuto 全自動(dòng)離子刻蝕機(jī) MEL 3100 技術(shù)參數(shù):
|
portant;">
Model |
portant;">
MEL3100 |
|
portant;">
Wafer size |
portant;">
3"～6" |
|
portant;">
Wafer per batch |
portant;">
1 wafer |
|
portant;">
Cassette No. |
portant;">
25 wafers |
|
portant;">
Cassette Q'ty |
portant;">
1pc. |
|
portant;">
Throughput |
portant;">
10 (wafer/hr) *1 |
|
portant;">
Pressure Ultimate |
portant;">
8×10-5 (Pa) *2 |
|
portant;">
Pressure Process |
portant;">
2×10-2 (Pa) *2 |
|
portant;">
Etching Rate |
portant;">
>10 (nm/min)@SiO2 *3 |
|
portant;">
Etching Uniformity |
portant;">
±5%@132mm (6") *3 |
|
portant;">
Wafer surface temp. |
portant;">
<100℃ *3 |
|
portant;">
Stage rotating |
portant;">
1～20 (rpm) ±5% |
|
portant;">
Stage tilting |
portant;">
±90°±0.5° |
|
portant;">
*1: Estimated process time 5min |
|
|
portant;">
*2: No wafer on stege / process chamber |
|
|
portant;">
*3: Depending on process |
|
Hakuto 全自動(dòng)離子刻蝕機(jī) MEL 3100 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：
1. 所有流程全自動(dòng)減少人工操作, 從而保證了產(chǎn)品的無(wú)差錯(cuò)、高穩(wěn)定性和高質(zhì)量
2. 盒式房間采用高效微粒過(guò)濾器
3. 采用高質(zhì)量的蝕刻考夫曼離子源, 保證良好的均勻性和高蝕刻率
4. 占用空間小
5. 傳輸系統(tǒng)采用了 SCARA 型機(jī)器人
6. 控制單元系統(tǒng)提供操作通過(guò)觸摸屏/ 10.4英寸, 數(shù)據(jù)記錄可以顯示在屏幕上
7. 高冷卻效果
8. 良好的重復(fù)性和再現(xiàn)性的旋轉(zhuǎn)和傾斜階段具有良好的可重復(fù)性利用脈沖電動(dòng)機(jī)
9. 容易維護(hù)這個(gè)系統(tǒng)設(shè)計(jì)重點(diǎn)是容易維護(hù)和用戶友好
10. 關(guān)鍵部件服務(wù)伯東的經(jīng)銷商是系統(tǒng)中的關(guān)鍵部件渦輪泵系統(tǒng)、離子源提供客戶快速響應(yīng)時(shí)間和本地服務(wù)能力,減少停機(jī)時(shí)間的工具
若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)產(chǎn)品信息或討論 , 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式 :
上海伯東 : 羅先生 臺(tái)灣伯東 : 王
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯東版權(quán)所有, 翻拷必究！
