KRI霍爾離子源可以在低功耗的情況下進(jìn)行大電流的工作, 很好的處理樣品的清潔度/和平整度; 可以根據(jù)不同的工藝要求來(lái)控制樣品表面的光滑/粗糙程度; 一致且可靠地去除表面污染物, 以暴露原始基材, 達(dá)到清洗前處理的作用.

穩(wěn)定工藝并提高產(chǎn)品產(chǎn)量. KRI離子源清洗在在真空室中進(jìn)行, 基板表面清潔后可以立即沉積, 短停留時(shí)間暴露于真空背景清潔并活化基材表面比輝光放電更清潔, 生產(chǎn)率更高; 無(wú)需基板偏置/無(wú)需高壓, 消除了大多數(shù)腔室壁的濺射, 沒有額外的抽空, 很好地提高了整體工藝的效率與質(zhì)量.

中國(guó)科學(xué)院沈陽(yáng)科學(xué)儀器股份有限公司客戶選用KRI EH1000型霍爾離子源組裝磁控濺射設(shè)備對(duì)聚氨酯類的材料進(jìn)行清洗前處理.

離子源清洗樣品的示意圖：

KRI 霍爾離子源 eH 1000 特性:

? 可拆卸陽(yáng)極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時(shí), 最大限度地減少停機(jī)時(shí)間; 即插即用備用陽(yáng)極

? 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率

? 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便; 無(wú)需水冷

? 高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

KRI 霍爾離子源 eH 1000 技術(shù)參數(shù):

* 可選: 可調(diào)角度的支架; Sidewinder

上海伯東是美國(guó) 考夫曼離子源在中國(guó)的總代理商.
上海伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

我們真誠(chéng)期待與您的合作！

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式：

上海伯東: 羅先生                               臺(tái)灣伯東: 王 
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

上海伯東版權(quán)所有, 翻拷必究！