但在放置和傳輸過程中會對玻璃基片表面難以避免地出現(xiàn)不明污染物, 失去 "新鮮表面" 形成鈍化層, 甚至可視痕跡.  對于低輻射玻璃而言, 在瑕疵處生長的銀膜會在后續(xù)鋼化及熱彎過程中形成團聚, 導(dǎo)致透光性能與低輻射性能嚴重惡化, 鍍膜產(chǎn)品報廢,降低成品率.

因此, 國內(nèi)某玻璃制造商采用伯東 KRI 考夫曼霍爾離子源 eH 3000 在玻璃基片傳輸后/ 鍍膜前進行在線基片表面處理工序.

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術(shù)參數(shù):

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

該制造商采用 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000離子源解離 Ar 氣體,轟擊玻璃表面,對玻璃基片表面進行清洗和刻蝕.

推薦理由：

設(shè)備穩(wěn)定,抗污染能力強,可以進行基片表面清洗與輔助沉積, KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 對玻璃基片表面有效去除二次污染/ 增加基片表面能/ 控制基片表面粗糙度.

運行結(jié)果:

1. KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000能有效去除二次污染,
2. 對玻璃基片有效清洗清洗和刻蝕, 獲得更清潔/ 平滑的玻璃基片表面
3. 提高了所鍍膜層的質(zhì)量,提高薄膜的附著力, 改善薄膜粗糙度以及薄膜的物理性能與機械強度
4. 降低了鍍膜產(chǎn)品報廢,提高了成品率

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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