登錄后方可查看聯系方式氧化物薄膜具有優越的機械、光學性能以及良好的環境穩定性, 被廣泛應用于可見近紅外波段制備各種低損耗光學薄膜.
某國內精密光學薄膜制造商為了獲得品質良好的Al2O3 薄膜, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 FRICP380 和考夫曼離子源 KDC100 輔助濺射鍍制 Al2O3 薄膜.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:
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portant;">
射頻離子源型號 |
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RFICP380 |
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Discharge 陽極 |
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射頻 RFICP |
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離子束流 |
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>1500 mA |
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portant;">
離子動能 |
portant;">
100-1200 V |
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柵極直徑 |
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30 cm Φ |
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portant;">
離子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
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portant;">
流量 |
portant;">
15-50 sccm |
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portant;">
通氣 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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portant;">
典型壓力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
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portant;">
長度 |
portant;">
39 cm |
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portant;">
直徑 |
portant;">
59 cm |
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portant;">
中和器 |
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LFN 2000 |
工藝簡介:
該制造商采用雙離子輔助鍍制 Al2O3 薄膜, 其中一個離子源（KRI 考夫曼射頻離子源 FRICP380）主要是用于產生高能氬離子束轟擊靶材, 通過動量傳遞使靶材原子獲得足夠的動能而脫離靶材表面, 射向基板, 在基板的上沉積而形成一層薄膜;
另一個輔助離子源（KRI 考夫曼離子源 KDC100）通入氧氣和氬氣的混合氣體, 通過對生長中的薄膜的轟擊, 使得薄膜進一步致密, 同時改善薄膜的化學計量比.
伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 100 技術參數：
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離子源型號 |
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離子源 KDC 100 |
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Discharge |
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DC 熱離子 |
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離子束流 |
portant;">
>400 mA |
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離子動能 |
portant;">
100-1200 V |
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portant;">
柵極直徑 |
portant;">
12 cm Φ |
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portant;">
離子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
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portant;">
流量 |
portant;">
2-20 sccm |
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portant;">
通氣 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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portant;">
典型壓力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
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portant;">
長度 |
portant;">
23.5 cm |
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portant;">
直徑 |
portant;">
19.4 cm |
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portant;">
中和器 |
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燈絲 |
* 可選: 可調角度的支架
其工作示意圖如下:
運行結果:
1. 制備的薄膜在中紅外波段具有高的折射率和低的消光系數, 光滑的表面特性和極低的表面散射耗損, 在2.7μm波段沒有發現由于水吸收導致的消光系數的增大；
2. 制備的反射膜在2.7 μm反射率達到了99.63%, 接近于理論計算值；
3. 鍍制的Al2O3 薄膜具有優良的環境穩定性.
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
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